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株式会社FLOSFIA（フロスフィア）は、独自成膜技術であるミストドライ®法をコア技術として、圧倒的な材料ポテンシャルを有する最先端半導体材料「コランダム構造酸化ガリウム（α-Ga2O3）」を用いたGAO®パワーデバイスの研究開発、製造、販売を行っています。